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HEDP. 일반-목적 확장 및 부식 방지제, 고온 저항성HEDP(하이드록시 에틸리덴 디포스폰산), CAS 2809-21-4, 분자식, 분자량 206.02는 HG/T 3537-2010 및 GB/T 26324-2010을 준수합니다. 유기인 스케일 및 부식 억제제로서 금속 이온을 킬레이트화하고 금속 산화물을 용해시킵니다. 이는 최대 250도까지의 고온, 높은 pH에서 염소 산화 및 가수분해에 저항합니다. 액체...자세히 보기
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ATMP 50% EVO 물 단량체ATMP(아미노 트리메틸렌 포스폰산)는 경도가 높은 공업용수용으로 특별히 제조된 전문 유기포스폰산염 스케일 및 부식 억제제입니다. 고온, 고알칼리성 및 염소-함유 수질 조건에서 안정적인 탄산칼슘 스케일 제어 기능을 제공합니다. 냉각탑, 보일러 시스템, 유전 물 주입 및 저압 RO 전처리에 널리 사용됩니다. 우리는 안정적인 배치 일관성을 갖춘 표준...자세히 보기
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산업용 등급 인산염 염 HEDP 유기포스폰산- 기반HEDP는 유기포스폰산-기반 스케일 및 부식 억제제입니다. 철, 구리, 아연을 포함한 여러 금속 이온과 안정적인 착물을 형성할 수 있으며 금속 표면에 형성된 산화물을 용해시킬 수 있습니다.자세히 보기
성상은 무색 또는 담황색의 투명한 액체이다. -
아미노트리(메틸렌포스폰산)ATMP50% 액체특성 및 용도ATMP는 우수한 킬레이트화, 임계값 억제 및 결정 왜곡 효과를 가지고 있습니다. 스케일 형성, 특히 탄산칼슘을 방지합니다. 물에서 화학적으로 안정하며 쉽게 가수분해되지 않습니다. 더 높은 농도에서 효과적인 부식 억제제. 순환 냉각수(발전소, 정유소) 및 유전 물 주입 시스템에 사용되어 부식/스케일을 줄입니다. 직물 및 금속 표면...자세히 보기
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산업용 등급 인산염 HEDP 50% 60% 90%활성 콘텐츠(HEDP)% 50분자세히 보기
아인산(PO33-)% 최대 2.0
인산(PO43으로서) 최대 0.8%
염화물(Cl-)% 최대 0.01
pH(1% 용액) 최대 2.0 -
인산염 스케일 억제제 염1-하이드록시에틸리덴-1,1-디포스폰산의 테트라나트륨자세히 보기
활성 콘텐츠(HEDP), % 56.0분
활성 함량(HEDP·Na4), % 79.9분
철, mg/L 최대 35.0
수분, 최대 % 15.0 -
수처리 인산염 염 ATMP 50% 액체활성산 % 50.0분자세히 보기
염화물(Cl-)% 최대 2.0
pH(1% 용액) 2.5max
철,mg/L 최대 20.0
밀도(20도)g/cm3 1.30 최대 -
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아미노 트리메틸렌 포스폰산의 테트라 나트륨 염아미노 트리메틸렌 포스폰산(ATMP.Na4)의 테트라 나트륨 염자세히 보기
활성 콘텐츠(ATMP)% 29.4-32.4
활성 함량(ATMP·Na4) % 38.0-42.0
PH(1% 수용액) 6.5-7.5
철,mg/L 최대 35.0
밀도(20도) g/cm3 1.35-1.45 -
아미노 트리메틸렌 포스폰산의 펜타 나트륨 염아미노 트리메틸렌 포스폰산의 펜타 나트륨 염자세히 보기
활성 콘텐츠(ATMP)% 27.8-30.7
활성 함량(ATMP·Na5) % 38.0-42.0
총인산(PO43-) % 26.6-28.6
염화물(Cl-) % 1.0 최대
PH(1% 수용액) 10.0-11.0 -
아미노 트리메틸렌 포스 폰산활성 산 % 5 0. 0 분자세히 보기
클로라이드 (cl-)% 2. 0 max
pH 균 (1 % 용액) 2.5max
Fe, mg\/l 2 0. 0 Max
밀도 (20도) g\/cm 3 1. 30 max
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